盛美上海進(jìn)軍涂膠/顯影Track市場(chǎng)，以滿(mǎn)足半導(dǎo)體集成電路制造商的光刻工藝需求
2022-11-18 12:56:35
盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“盛美上海”)（科創(chuàng)板股票代碼：688082），作為一家為半導(dǎo)體前道和先進(jìn)晶圓級(jí)封裝應(yīng)用提供晶圓工藝解決方案的卓越設(shè)備供應(yīng)商，今日成功推出涂膠顯影Track設(shè)備，標(biāo)志著該公司已正式進(jìn)軍涂膠顯影Track市場(chǎng)，這也是該公司提升其在清洗、涂膠和顯影領(lǐng)域內(nèi)專(zhuān)業(yè)技術(shù)的必然結(jié)果。盛美上海于2013年開(kāi)發(fā)了公司首個(gè)封裝涂膠機(jī)和顯影機(jī)，并于2014年交付了給客戶(hù)。盛美上海將于幾周后向中國(guó)國(guó)內(nèi)客戶(hù)交付公司首臺(tái)ArF工藝涂膠顯影Track設(shè)備，并將于2023年推出i-line型號(hào)設(shè)備。此外，公司已開(kāi)始著手研發(fā)KrF型號(hào)設(shè)備。
“我榮幸地宣布，盛美上海已正式進(jìn)軍Track市場(chǎng)，這將成為我們的又一大新產(chǎn)品品類(lèi)。Gartner1數(shù)據(jù)顯示，2022年全球Track市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)37億美元，這是盛美上海發(fā)展的新契機(jī)。得益于盛美上海在軟件和機(jī)械手技術(shù)方面的核心競(jìng)爭(zhēng)力，加之涂膠顯影設(shè)備的優(yōu)良性能以及具有全球?qū)＠暾?qǐng)保護(hù)的全新架構(gòu)，我們可以憑借競(jìng)爭(zhēng)性產(chǎn)品及服務(wù)成功進(jìn)軍Track市場(chǎng)，這也標(biāo)志著我們?cè)跐M(mǎn)足當(dāng)前及未來(lái)前道光刻工藝需求中邁出了關(guān)鍵的第一步。鑒于全球邏輯及存儲(chǔ)器制造商正在尋求第二供應(yīng)商，我們相信這款全新產(chǎn)品會(huì)有巨大的需求潛力，”盛美上海董事長(zhǎng)王暉博士表示。
盛美上海涂膠顯影Track設(shè)備是一款應(yīng)用于300毫米晶圓工藝的設(shè)備，可提供均勻的下降氣流、高速穩(wěn)定的機(jī)械手處理以及強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，從而滿(mǎn)足客戶(hù)特定需求。該設(shè)備功能多樣，能夠降低產(chǎn)品缺陷率，提高產(chǎn)能，節(jié)約總體擁有成本（COO）。涂膠顯影Track設(shè)備將支持包括i-line、KrF和ArF系統(tǒng)在內(nèi)的各種光刻工藝。
涂膠顯影Track設(shè)備支持光刻工藝，可確保滿(mǎn)足工藝要求，同時(shí)讓晶圓在光刻設(shè)備中曝光前后的涂膠和顯影步驟得到優(yōu)化。該設(shè)備專(zhuān)為300毫米晶圓而設(shè)計(jì)，共有4個(gè)適用于12英寸晶圓的裝載口，8個(gè)涂膠腔體、8個(gè)顯影腔體。該設(shè)備腔體溫度可精準(zhǔn)控制在23°C ±0.1°C ，烘烤范圍為50°C至250°C，晶圓破損率低于1/50,000 。此外，全球?qū)＠暾?qǐng)保護(hù)的全新結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)還可拓展支持12個(gè)涂膠腔體及12個(gè)顯影腔體，每小時(shí)晶圓產(chǎn)能可達(dá)300片，將來(lái)在配備更多的涂膠和顯影腔體的條件下還能達(dá)到每小時(shí)400片以上的產(chǎn)能。
數(shù)據(jù)來(lái)源：
1. Forecast: Semiconductor Capital Spending, Wafer Fab Equipment and Capacity, Worldwide, 3Q22 Update
