盛美上海推出新型熱原子層沉積立式爐設備， 以滿足高端半導體的生產需求
2022-9-28 9:21:11
盛美半導體設備（上海）股份有限公司(以下簡稱“盛美上海”)（科創(chuàng)板股票代碼：688082），作為一家為半導體前道和先進晶圓級封裝應用提供晶圓工藝解決方案的卓越設備供應商，于今日宣布其對300mm Ultra Fn立式爐干法工藝平臺進行了功能擴展，研發(fā)出新型Ultra Fn A立式爐設備。該設備的熱原子層沉積（ALD）功能豐富了盛美上海立式爐系列設備的應用。公司還宣布，首臺Ultra Fn A立式爐設備已于本月底運往中國一家先進的邏輯制造商，并計劃于2023年底通過驗證。
盛美上海的董事長王暉表示：“隨著邏輯節(jié)點的不斷縮小，越來越多的客戶為滿足其先進的工藝要求，努力尋找愿意合作的供應商共同開發(fā)。ALD是先進節(jié)點制造中增長最快的應用之一，是本公司立式爐管系列設備的關鍵性新性能。得益于對整個半導體制造工藝的深刻理解和創(chuàng)新能力，我們能夠迅速開發(fā)全新的濕法和干法設備，以滿足新興市場的需求。全新ALD立式爐設備基于公司現有的立式爐設備平臺，搭載差異化創(chuàng)新設計，軟件算法優(yōu)化等實現原子層吸附和均勻沉積。”
盛美上海新型熱ALD設備可沉積氮化硅（SiN）和碳氮化硅（SiCN）薄膜。公司出廠的首臺Ultra Fn A設備將用于28納米邏輯制造流程，以制造側壁間隔層。此工藝要求刻蝕速率極低，且臺階覆蓋率良好，與其他實現模式相比，Ultra Fn A立式爐設備在模擬中實現了均一性的改善。
盛美上海Ultra Fn A設備以Ultra Fn立式爐設備平臺的成功為基礎，能滿足原子層沉積工藝的同時具備低累積膜厚氣體清洗功能，保證顆粒的穩(wěn)定性。Ultra Fn A立式爐設備聚焦核心技術研發(fā)，力求滿足高產能批式ALD工藝的高端要求?？赏ㄟ^簡單改變 微小的組件和細微的布局對設備進行個性化定制，這使得新型ALD工藝的開發(fā)得以迅速提升。其創(chuàng)新設計還巧妙融合了盛美上海成熟的軟件技術、可提高耐用性和可靠性的新硬件以及盛美上海自主研發(fā)專利工藝控制IP，以實現快速而穩(wěn)定的工藝控制。
